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半导体芯片冷热冲击香蕉视频污视频方法高低温冲击香蕉视频污视频箱:
目的:
芯片在生产过程中,需要对其进行冷热冲击香蕉视频污视频。一般情况下,民用芯片的正常工作温度范围是 0℃-70℃,其他芯片性能更高,正常工作温度范围是 -55℃-125℃。以上温度范围都是芯片工作下的温度范围,当芯片不工作时,可以承受超过 200℃ 的焊接温度。
试件:
将试件芯片通电置于置物架上;
根据要求设定香蕉视频污视频温度:
首先对试件进行低温香蕉视频污视频,再进行高温香蕉视频污视频,循环次数依要求进行:记录半导体芯片工作状态下,在设定温度下的相关参数,对产品分析,工艺改进以及批次的定向品质追溯提供确实的数据依据。
试件从低温或是高温香蕉视频污视频开始,不同标准有不同的解析。若香蕉视频污视频从低温段开始,香蕉视频污视频结束在高温段,若香蕉视频污视频从高温段开始,结束在低温段。为防止试件在香蕉视频污视频结束后表面产品凝露,香蕉视频污视频结束在低温段时需要增加烘干恢复的过程,这样就增加了香蕉视频污视频周期,建议香蕉视频污视频从低温段开始,结束在高温段。
温度范围:-65℃~150℃
低温冲击:-40℃,-55℃,-65℃
高温冲击:65℃,85℃,125℃
温度冲击时间小于3min,1min
温度保持时间30min,60min
测试时间不能少于1000个循环
热压器/无偏压 HAST测试 参考标准:JESD22-A118
温度范围:100℃~143℃
湿度范围:70%RH~100%RH
压力范围:0.5kg~3.5kg
测试时间不能少于200小时,具体根据用户实际要求,有些需要达到500小时到1000小时等不同时间
其他测试标准:GB/T 2423.1-2001 香蕉视频污视频A:低温香蕉视频污视频方法,香蕉视频污视频B:高温香蕉视频污视频方法,GJB 150.3-1986 高温香蕉视频污视频, 低温香蕉视频污视频, GB 11158《高温香蕉视频污视频箱技术条件》, IEC60068-2-14 等测试标准。